María Carmen Asensio Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid CSIC España	José M. Martínez-Duart Universidad Autónoma de Madrid España
Christopher R Brundle Defect and Thin Film Characterization Laboratory,  Applied Materials, Santa Clara Estados Unidos	Russell Messier Penn State University Estados Unidos
David G. Castner University of Washington Estados Unidos	Hugo Navarro  Instituto de Investigación en Comunicación Óptica Universidad Autónoma de San Luis Potosí
Arturo Escobosa Departamento de Ingeniería Eléctrica Cinvestav-IPN	Felipe Pérez Rodriguez Instituto de Física Universidad Autónoma de Puebla
Joe Greene  University of  Illinois Estados Unidos	Luis Efraín Regalado  Centro de Investigaciones en Óptica-Guanajuato
Paul H. Holloway University of Florida Estados Unidos	Jorge Rickards  Instituto de Física  UNAM
Gary E. McGuire  Microelectronic Center of the  North Carolina U. Estados Unidos	Zhi-xun Shen Stanford University Estados Unidos